第1题
A.沉积速度快
B.和膜层结合力高
C.绕射性好
D.可镀材料广泛
第2题
A.提升法
B.真空电镀法
C.阴极溅射法
D.离子镀法
第3题
A.离子刻蚀
B.离子溅射沉积
C.离子焊接
D.离子镀
第4题
第5题
第6题
第7题
第8题
A.数码技术
B.网络信息技术
C.通信技术
D.视频技术
第9题
第10题
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