题目内容
(请给出正确答案)
[单选题]
在外加栅压为零时,p沟增强型MOS管半导体表面处于()状态,()导电沟道。
A.积累,无
B.耗尽,无
C.反型,有
D.积累,有
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A.积累,无
B.耗尽,无
C.反型,有
D.积累,有
第2题
A.跨导反映外加栅极电压控制漏-源电流的能力
B.跨导指的是栅极电压每变化1伏特所引起的栅-源电流的变化
C.跨导标志着MOS场效应管的电压放大能力
D.MOS管的跨导越大,电压增益也越大
第8题
推导结型场效应四级管的电流-电压关系,在该四级管中,两个栅极是分开的,两个栅上的外加电压为VG1和VG2.假设为单边突变结.
第11题
下列关于存储器的论述中,正确的是()。
A.与SRAM相比,DRAM由于需要刷新,所以功耗较高
B.常用的EPR,OM采用浮栅雪崩注入型MOS管构成,出厂时存储内容为全“0”
C.SRAM依靠基于MOS管的双稳态电路来存储信息,所以不需要刷新
D.双极型RAM不仅存取速度快,而且集成度高