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[单选题]

在外加栅压为零时,p沟增强型MOS管半导体表面处于()状态,()导电沟道。

A.积累,无

B.耗尽,无

C.反型,有

D.积累,有

答案
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更多“在外加栅压为零时,p沟增强型MOS管半导体表面处于()状态,()导电沟道。”相关的问题

第1题

p沟增强型MOS管的开启电压为___,沟道中导电载流子为___。

A.正值,电子

B.正值,空穴

C.负值,电子

D.负值,空穴

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第2题

以下关于MOS管跨导的说法中,错误的是()。

A.跨导反映外加栅极电压控制漏-源电流的能力

B.跨导指的是栅极电压每变化1伏特所引起的栅-源电流的变化

C.跨导标志着MOS场效应管的电压放大能力

D.MOS管的跨导越大,电压增益也越大

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第3题

试定性画出P沟道增强型MOS场应管的转移特性和输出特性曲线。

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第4题

结型与MOS管、P沟道与N沟道、耗尽型与增强型场效应管的小信号电路模型是否有区别?
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第5题

试确定图2.4.1所示各增强型MOS管工作状态。已知各MOS管的∣VT∣=2 V,忽略电阻上的压降。

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第6题

增强型绝缘栅场效应管,当栅极g与源极s之间电压为零时()。

A.不能形成导电沟道

B.漏极电压为零

C.能够形成导电沟道

D.漏极电流不为零

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第7题

图LP3-16所示为采用非线性补偿的有源电阻器,N沟道增强型MOS管T1、T2工作在变阻区,试证
明:

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第8题

推导结型场效应四级管的电流-电压关系,在该四级管中,两个栅极是分开的,两个栅上的外加电压为VG1和VG2.假设

推导结型场效应四级管的电流-电压关系,在该四级管中,两个栅极是分开的,两个栅上的外加电压为VG1和VG2.假设为单边突变结.

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第9题

要迫使MOS管工作在饱和区,可以在工作时将栅和源短接在一起,则沟道总是被夹断的。()
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第10题

由N沟道增强型MOS管构成的共漏极放大电路如下图所示,试画出该电路的交流通路和交流小信号等效电路,推导电压

放大倍数Au=uo/ui、输入电阻Ri和输出电阻Ro的计算公式。

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第11题

下列关于存储器的论述中,正确的是()。A.与SRAM相比,DRAM由于需要刷新,所以功耗较高B.常用

下列关于存储器的论述中,正确的是()。

A.与SRAM相比,DRAM由于需要刷新,所以功耗较高

B.常用的EPR,OM采用浮栅雪崩注入型MOS管构成,出厂时存储内容为全“0”

C.SRAM依靠基于MOS管的双稳态电路来存储信息,所以不需要刷新

D.双极型RAM不仅存取速度快,而且集成度高

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